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  • 基于銅基的單層氮化硼薄膜(5*2.5cm)

    Single layer h-BN (Boron Nitride) film grown in copper foil. h-BN is an insulator with a direct band gap of 5.97 eV. Due to its strong covalent sp2 bonds in the plane, the in-plane mechanical strength

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    廠商性質:生產廠家
    更新日期:2024-06-03
  • 基于285nm二氧化硅基底的單層氮化硼薄膜

    Single Layer CVD hexagonal Boron Nitride Film on 285 nm SiO2/Si substrates (p-doped), 1cmx1cm: 8 pack Properties of BN film 97% coverage with minor holes and organic residues High Crystalline Quality

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    更新日期:2024-06-03
  • 基于銅基的多層氮化硼薄膜(52.5cm)

    Specifications: Close to complete coverage (90-95%), with some minor holes Average Thickness of BN film is 13 nm Thickness of the copper foil is 20 microns Quality is confirmed by TEM.

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    更新日期:2024-06-03
  • CVD六方氮化硼薄膜(基底可選)

    單層、雙層、多層等需求定制; 尺寸:1*1cm 基底:石英基底/PET基底/藍寶石基底/Sio2/Si 單層、雙層、多層等需求定制; 尺寸:1*1cm 基底:石英基底/PET基底/藍寶石基底/Sio2/Si

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  • 六方氮化硼晶體(20片裝)

    六方氮化硼晶體(20片裝) hBN(Hexagonal Boron Nitride)-Crystal 晶體尺寸:~1mm 電學性能:絕緣體/半導體 晶體結構:六邊形 晶胞參數:a = b = 0.2502 nm, c = 0.6617 nm, α = β = 90°, γ = 120° 晶體類型:合成 晶體純度:*

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  • Monolayer h-BN Solution 單層氮化硼溶液

    This product contains h-BN mono- and few-layer flakes solution in ethanol.

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